在不同程度上，貴金屬鍍層(如金，鈀以及它們的合金)其本質(zhì)對表面薄膜來說是游離的，對這些鍍層來說產(chǎn)生界面的金屬接觸相對較簡單，因?yàn)樗鼉H僅需要接觸表面的伴隨物在配合時的移動。

通常這很容易實(shí)現(xiàn)，為維持接觸界面阻抗的穩(wěn)定性，排針排母設(shè)計要求應(yīng)注意保持接觸表面貴金屬性以防止外在因素如污染物、基材金屬的擴(kuò)散以及接觸磨損的影響。

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電氣性能的優(yōu)化可從如下方面考慮，即對已經(jīng)存在和即將形成的位于接觸鍍層表面薄膜的控制，排針排母電氣性能的一個主要需求是建立和維持穩(wěn)定的排針排母阻抗。
為達(dá)到這個目的，需要一個金屬接觸界面以提供這樣的固有穩(wěn)定性，建立這樣的接觸界面需要表面薄膜能在接觸配合的時候避開或分裂，這兩種不同的選擇明確了貴金屬或稀有金屬和普通金屬之間的區(qū)別。
普通金屬鍍層，特別是錫或錫合金，其表現(xiàn)都自然覆蓋有一層氧化薄膜，錫接觸鍍層的作用，是因?yàn)檫@層氧化物容易在配合時候被破壞，這樣金屬接觸就容易被建立起來。
排針排母設(shè)計的需求是能保證氧化膜在排針排母配合時破裂，而在電連執(zhí)著器的有效期內(nèi)確保接觸界面不再被氧化，再氧化腐蝕，在磨損腐蝕中，是錫接觸鍍層最主要的性能退化機(jī)理。
排針排母銀接觸鍍層蕞好被當(dāng)作是普通金屬鍍層，因?yàn)樵撳儗尤菀资艿搅蚧锖吐然锏母g，由于氣閥經(jīng)物的形成通常也把鎳鍍層當(dāng)作是普通金屬。